IBS宣布售出一台其...Read More
PULSION® 等离子浸没式工具具有以下特点：
> 整片晶圆的同步掺杂
> 超低能量（低至 30 eV），无能量污染风险
> 3D 结构的符合性掺杂
> 热掺杂
> 宽工艺范围
我们为半导体行业提供量身定制的解决方案。立即联系我们，了解更多关于我们尖端离子刻蚀技术及其如何为您的项目带来益处的信息。
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Proven expertise
年的专业经验
已售出台IBS离子注入机
植入了种不同的元素